行业研究 | 次先进DUV光刻机出口管制影响分析——半导体政策解读系列之五

（以下内容从兴业研究《行业研究 | 次先进DUV光刻机出口管制影响分析——半导体政策解读系列之五》研报附件原文摘录）
　　光刻机，ASML，出口管制 事件概述：荷兰时间2024年9月6日，全球最大的光刻机供应商ASML在其官网发布声明称，荷兰政府发布了有关浸润式 DUV 半导体设备出口的最新许可证要求 ，该要求将于荷兰时间2024年9月7日正式生效。 次先进DUV光刻机出口管制核心内容：①本次荷兰光刻机出口管制的覆盖范围进一步扩大，从之前的EUV光刻机、TWINSCAN NXT:2000i及后续DUV浸润式光刻机，扩大到次先进的TWINSCAN NXT:1970i与1980i光刻机；②出口许可证需要向荷兰政府申请而非美国政府。 海外对华光刻机的出口管制变化：（1）限制范围不断扩大：ASML光刻机出口管制方面，从早期的EUV光刻机，到去年的2000i及以上DUV浸润式光刻机，再到新增的1970i、1980i光刻机；（2）参与国家数量不断增加：从早期的美国政府单方面施压，再到如今的荷兰、日本政府加入。 ASML在中国大陆地区业务情况：由于本土晶圆厂积极扩产、海外制裁加剧等因素，中国大陆近几年成为ASML光刻机的最重要客户。根据ASML季报数据显示，2024Q1、2024Q2 ASML设备在中国大陆地区营收分别为19.43、23.33亿欧元，连续两个季度占据设备总营收49%的份额。 请登录兴业研究APP查看完整研报 获取更多权限，联系文末销售人员。 ★ 点击图片购买 “兴业研究系列丛书” ★ 转 载 声 明 转载请联系market-service@cib.com.cn邮箱，我们尽快给予回复。本报告相关内容未经我司书面许可，不得进行引用或转载，否则我司保留追诉权利。 服 务 支 持 人 员 对集团外客户 李 璐 琳 13262986013 liliulin@cib.com.cn 对集团内用户 汤 灏 13501713255 tanghao@cib.com.cn 免 责 声 明 兴业经济研究咨询股份有限公司(CIB Research Co.,Ltd.)(中文简称“兴业研究公司”)提供，本报告中所提供的信息，均根据国际和行业通行准则，并以合法渠道获得，但不保证报告所述信息的准确性及完整性，报告阅读者也不应自认该信息是准确和完整的而加以依赖。 本报告中所提供的信息均反映本报告初次公开发布时的判断，我司有权随时补充、更正和修订有关信息，但不保证及时发布。本报告内容仅供报告阅读者参考，一切商业决策均将由报告阅读者综合各方信息后自行作出，对于本报告所提供的信息导致的任何直接或间接的后果，我司不承担任何责任。 本报告的相关研判是基于研究员本人的知识和倾向所做出的，应视为研究员的个人观点，并不代表所在机构。我司可根据客观情况或不同数据来源或分析而发出其它与本报告所提供信息不一致或表达不同观点的报告。研究员本人自认为秉承了客观中立立场，但对报告中的相关信息表达与我司业务利益存在直接或间接关联不做任何保证，相关风险务请报告阅读者独立做出评估，我司和研究员本人不承担由此可能引起的任何法律责任。 本报告中的信息及表达的观点并不构成任何要约或投资建议，不能作为任何投资研究决策的依据，我司未采取行动以确保此报告中所指的信息适合个别的投资者或任何的个体，我司也不推荐基于本报告采取任何行动。 报告中的任何表述，均应从严格经济学意义上理解，并不含有任何道德、政治偏见或其他偏见，报告阅读者也不应该从这些角度加以解读，我司和研究员本人对任何基于这些偏见角度理解所可能引起的后果不承担任何责任，并保留采取行动保护自身权益的一切权利。 本报告版权仅为我司所有，未经书面许可任何机构和个人不得以任何形式翻版、复制和发表。除非是已被公开出版刊物正式刊登，否则，均应被视为非公开的研讨性分析行为。如引用、刊发，需注明出处为“兴业经济研究咨询股份有限公司”，且不得对本报告进行有悖原意的引用、删节和修改。 我司对于本免责声明条款具有修改和最终解释权。

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