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开源证券-中微公司-688012-公司首次覆盖报告:大国重器蓄势待发,国产替代正当逢时-200518

上传日期:2020-05-18 12:15:04 / 研报作者:段小虎李子卓 / 分享者:1007877
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  我们长期看好公司的“优质赛道+过硬综合实力”,首次覆盖给予“增持”评级
  公司是国产半导体设备明星企业:1)行业层面:全球半导体市场有望于2020年回暖;半导体产业向中国转移,国内存储、Foundry厂商新建产线陆续投产、扩产,封测厂商配套新增晶圆制造产能投入产线建设,将拉动对上游设备的需求;IC制造工艺的制程越先进、复杂程度越高,对刻蚀工艺的使用频率、技术要求越高,将促使刻蚀设备用量的增加以及技术的升级;2)公司层面,技术国内领先、国际先进,已有产品获得海内外客户高度认可,持续与下游客户配合开发更高端应用,为中长期业绩增长储备势能。我们看好公司未来的发展前景,预计公司2020/2021/2022年可分别实现EPS 0.47/0.54/1.03元,对应PE 448/387/204倍,首次覆盖,给予“增持”评级。
  堪称国内半导体设备最高水平,持续新品开发储备增长势能
  国际市场,高端刻蚀设备已占一席之地,CCP市占率1.4%,虽销售规模与三巨头差距较大,但部分技术已达国际同类产品标准;国内市场,具有突出竞争力,在本土主流存储、Foundry厂的招标采购比例超过15%,且市占率加速提升。具体来看:1)逻辑IC方面,高端刻蚀设备已运用在国际知名客户65-7nm生产线上;根据先进IC厂需求,已开发出5 nm设备用于若干关键步骤加工,并已获行业领先客户批量订单;配合客户需求,开发新一代刻蚀设备和包括更先进大马士革在内的刻蚀工艺,可涵盖5nm以下刻蚀需求和更多不同关键应用的设备。2)3DNAND方面,CCP可应用于64层量产;根据存储器厂需求正在开发新一代可涵盖128层关键刻蚀应用以及对应极高深宽比的刻蚀设备和工艺。3)ICP已在多个逻辑、存储厂的生产线上量产,并根据客户需求进行下一代产品技术研发,以满足7nm以下逻辑芯片、1X纳米DRAM芯片和128层以上3DNAND芯片等产品的ICP刻蚀需求,并进行高产出的刻蚀设备的研发。
  风险提示:全球疫情拖累半导体市场复苏、国产化进展缓慢、新产品开发验证不及预期、涉及行政专利诉讼案件的进展或引发市场情绪波动。
  

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