华西证券-半导体行业国产湿法清洗龙头盛美回归：国产半导体设备进口替代突破口之清洗设备-200616

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清洗贯华西证券穿全流程，随着制程难度增加、清洗步骤随之大增，对清洗设备需求也将提升。

1）硅片的加工过程对洁净度要求非常高，几乎每一步加工都需要清除沾污，而且随着未来制程不断先进、所需清洗步骤不断增多，清洗设备半导体行业国产湿法清洗龙头盛美回归需求量将成倍增长。

2）目前晶圆清洗设备在晶圆制造设备中国产半导体设备进口替代突破口之清洗设备的采购费用占比约为6%，清洗方式有湿法和干法两种，目前生产工艺中以湿法清洗为主、结合部分干法工艺，其中湿法设备主要有单片晶圆清洗设备、槽式晶圆清洗设备、洗刷机等。

市场格局：日系占据主导地华西证券位，国产企业奋起直追。

1）假设清洗设备晶占晶圆制造设备的比重稳定，我们粗略计算出全球半导体清洗设备2019-2021年的市场规模分半导体行业国产湿法清洗龙头盛美回归别约为28.68、29.18、32.06亿美元。

2）未来半导体清洗设备行业增长的驱动力包括三部分：一方面是国产半导体设备进口替代突破口之清洗设备随着工艺的不断升级、制造流程增多，清洗频率也将有所增加，清洗设备的需求量将不断提升；二是集成电路制造工艺升级，芯片结构越发复杂、清洗难度升级，如3D结构等需要在对芯片无伤情况下对内部结构进行清洗；三是集成电路新型材料的出现，也对清洗工艺提出了新的需求。

3）从清洗设备的配备数量来看，通常4万片产能的产线上，8英寸线需要配备50台左右、12英寸线需要70台左右，国外部分厂商可以达到12华西证券0台的配备，包括槽式晶圆清洗设备和单片晶圆清洗设备。

价格方面，6-8个腔体半导体行业国产湿法清洗龙头盛美回归的单片晶圆清洗设备价格在300-400万美元/台，槽式价格大概在100-200万美元/台。

4）全球清洗设备市场中，日系企业占据绝对的主导地位，迪恩士（DNS）市场国产半导体设备进口替代突破口之清洗设备份额大约为60%、东京电子（TokyoElectron）大约为30%，其他企业还有美国LamResearch、韩国SEMES和KCTECH等，后二者主要供给韩国市场。

投资建议：国产企业奋起直追，龙头盛美回华西证券归在即。

目前中国市场和国际市场范围内，主要的湿法设备厂商仍以日本和欧美为主，国内企业正奋起直追但占比仍较低，国内市场中预计合计占比不超过10%，未来湿法工艺设备的挑战和机会都很大，目前国内湿法清洗设备供应商包括半导体行业国产湿法清洗龙头盛美回归盛美半导体、北方华创、至纯科技、芯源微等，均将有所受益，尤其是龙头盛美兆声波单片清洗设备获得全球众多客户认可，子公司科创板IPO申请已正式获上交所受理。

风险提示：海外疫情超预期；国产化进度国产半导体设备进口替代突破口之清洗设备不及预期；相关企业市场订单获取低于预期。