中银国际-半导体设备行业点评：从ASML、Nikon、Canon年报看光刻机行业，EUV已占4成，逻辑客户主导光刻机需求长期高增长-210208

《中银国际-半导体设备行业点评：从ASML、Nikon、Canon年报看光刻机行业，EUV已占4成，逻辑客户主导光刻机需求长期高增长-210208（15页）.pdf》由会员分享，可在线阅读，更多相关《中银国际-半导体设备行业点评：从ASML、Nikon、Canon年报看光刻机行业，EUV已占4成，逻辑客户主导光刻机需求长期高增长-210208（15页）.pdf（15页精品完整版）》请在悟空智库报告文库上搜索。

光刻机作为晶圆制造工艺最核心设备，相当于半导体的火车头，且因其被ASML垄断接近90%的市场格局，其订单趋势、产品创新对全球半导体产业具有前瞻性参考价值。

市场规模：2020年全球光刻机销量413台，估计销售额130多亿美元均创历史新高。

根据ASML、Canon、Nikon公告，全球光刻机销量413台，同比增长15%，按季度依次是95台、95台、97台、126台，分别同比增长19%、25%、8%、12%。

参考ASML单价，我们估计全球光刻机市场规模达到130多亿美元，同比增长20%以上，且2016-2020年全球光刻机市场规模年均复合增长23%。

市场增量：光刻机行业市场规模的增量主要来自EUV，全球销量占比27%的EUV与ArFimmersion占光刻机市场销售额的82%。

2020年EUV光刻机销量31台占比8%，销售额55亿美元同比增长76%，占光刻机市场规模的比例为41%；ArFi销量80台占19%，销售额估计54亿美元同比下降7%，但占全球光刻机市场的40%。

ArFdry、KrF、i-line光刻机销量分别为32台、130台、140台，分别同比增长3%、57%、25%，销量占比依次是8%、31%、34%，销售额占比依次是5%、11%、3%。

竞争格局：ASML垄断约90%光刻机市场。

2020年413台光刻机中，ASML销售258台占比62%，Canon销售122台（KrF、i-line）占比30%，Nikon销售33台占比8%，按销售额计算，ASML、Canon、Nikon的光刻机销售额占比依次是91%、3%、6%。

2020年，EUV目前仅有ASML制造供应；ArFimmersion80台销量中ASML销售了68台占85%，Nikon销售了12台占15%；ArFdry光刻机32销量中，ASML销售22台占69%，Nikon销售10台占比31%;KrF光刻机行业销量140台中，ASML占79%，Canon占19%，Nikon占2%，i-line光刻机销量中，ASML占24%，Canon占69%，Nikon占6%。

客户结构：ASML逻辑客户收入贡献比例7成，但存储客户的采购额2020年实现了同比正增长。

2020年ASML客户结构中，逻辑客户收入占比72%，存储客户收入占比仅为28%但相比2019年上升了1个百分点。

实际上，逻辑客户2020年收入74亿欧元同比增长8%，预计2021年同比增长10%达到82亿，存储客户2020年收入29亿欧元同比增长14%，预计2021年同比增长20%达到35亿欧元，表明3DNand、DRAM等存储厂资本开支持续恢复增长。

EUV光刻：2021年延续高增长势头，High-NAEUV光刻系统将始于2nm、2nm+等技术节点。

2020年ASMLEUV收入45亿欧元，同比增长59%，预计2021年EUV光刻机收入58亿欧元同比增长30%。

尽管EUV也将被用于DRAM（尤其是1a技术节点及以下），但Logic先进制程仍是主要需求方。

High-NAEUV光刻系统将始于N2、N2+技术节点，其量产时间表估计将是2025-2026年。

ASML将在2022年完成第一台High-NAEUV光刻机系统的验证，并计划在2023年交付给客户。

风险提示：新产品工艺验证时间长且风险高，PE估值较高的风险，晶圆制造项目可能遇到的技术及建设进度风险等。