光大证券-光刻胶行业跟踪报告之一：日本光刻胶供应不足，看好国产替代的先锋队-210527

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行业动态：2021年2月13日，日本福岛东部海域发生了7.3级地震，影响最为严重的是信越化学，直接停止了福岛工厂的生产，其光刻胶产品占据整个行业13%以上的市场份额。

根据集微网消息，由于地震原因，信越化学KrF光刻胶产线受到很大程度的破坏，至今尚未完全恢复生产，由此导致中国大陆多家晶圆厂KrF光刻胶供应紧张，部分中小晶圆厂KrF光刻胶甚至出现断供问题。

1、光刻胶是光刻工艺的“粮食”，我国高端领域受制于人光刻胶又叫光致抗蚀剂，是通过紫外光、电子束、X射线、离子束等照射或辐射，使树脂的溶解度发生变化的耐蚀刻涂层材料，主要应用于集成电路、半导体器件及光电子领域等光电信息产业中。

光刻胶一般由感光树脂、增感剂和溶剂三个成分混合而成，其中光敏树脂是其主要成分。

按曝光前后光刻胶膜溶解性质的变化又可分为正型光刻胶和负型光刻胶。

所谓正胶是指在光刻工艺中，涂层经曝光、显影后，曝光部分在显影液中溶解而未曝光部分保留下来形成图案的光刻胶；而负胶则相反，被溶解的是未曝光部分，而曝光部分形成图案。

按曝光波长不同可分为紫外光刻胶（分为正型和负型两种）、深紫外光刻胶、极紫外光刻胶等。

光刻胶的应用领域主要分为四个部分：半导体光刻胶、液晶显示（LCD）光刻胶、印路板（PCB）光刻胶和其他用途类光刻胶。

在半导体领域，光刻工艺的成本约为整个芯片制造工艺的30%，耗时约占整个芯片工艺的40-50%，是芯片制造中最核心的工艺。

而光刻胶作为光刻工艺的“粮食”，行业壁垒较高。

目前全球光刻胶市场份额集中在日本JSR、日本东京应化、美国罗门哈斯、日本信越化学和日本富士电子，占比高达97%，日本龙头地位明显，合计占比72%。

在全球半导体光刻胶市场中，光刻胶市场主要还集中在KrF、ArF、g/i线光刻胶上，占比分别为28%、22%和14%，EUV光刻胶所占的份额较小。

光刻胶是与光刻机相互配套的，光刻机的曝光波长决定了晶圆制造的最佳工艺水平，也决定了相应光刻胶的要求，基本上遵循着：器件性能需求→光刻机类型→光刻胶类型→制造工艺水平。

我国高端领域半导体光刻胶国产化率低于5%，LCD光刻胶国产化率接近10%，低端领域PCB国产化率高达50%以上。

半导体光刻胶基本上是低端G线、I线正胶产品，高分辨G线正胶、I线正胶、248nm和193nm深紫外光刻胶均依赖进口，高端领域国产化空间巨大，但道阻且长，亟需与科研机构、设备和制造厂商等合作实现“产学研结合、协同开发”。

光刻胶生产企业主要集中在美国、日本、欧洲等，国内IC光刻胶企业目前仍然还不成熟，很难作为“proven”的材料参与到芯片制造企业的研发环节，但随着2018年中美贸易摩擦升级以及国家的大力扶持，越来越多的企业参与到光刻胶的合作开发进程中来，光刻胶国产化正在不断提速。

2、受益于全球供应短缺和国产化加速，看好国产替代的先锋队受益于全球供应短缺和国产化加速，持续看好国产替代的先锋队：彤程新材、晶瑞股份、上海新阳、南大光电和华懋科技。

彤程新材：北京科华正式并表，电子化学品业务营收开始显现2020年及2021年2月公司通过全资子公司彤程电子收购北京科华42.26%的股权，成为科华第一大股东并对科华实现实际控制。

2021年Q1北京科华正式并表，电子化学品业务开始为公司营收提供增量。

2021年Q1，公司实现电子化学品销售281.6吨，实现营收1292万元。

此外在进行电子化学品业务外延并购的同时，公司自身也投资5.7亿元在上海化学工业区布局有1.1万吨半导体、平板显示用光刻胶建设项目2万吨相关配套试剂项目，该项目已于2021年5月26日在上海化学工业区顺利开工，预计于2021年年末机械竣工。

晶瑞股份：“半导体+新能源”双轮驱动，未来成长空间广阔公司2021年购入的ArF光刻机现处于设备调试阶段，将用于研发90-28nm先进制程的ArF光刻胶，有望突破高端半导体光刻胶的技术壁垒。

新能源锂电材料方面，公司研发的CMCLi粘结剂生产线于2020年顺利落成，实现千吨级规模量产，打破了国外企业对于高端锂电粘结剂的技术垄断。

“半导体+新能源”双领域新产品的持续开发和下游客户认证的顺利推进，公司拥有广阔的成长空间。

上海新阳：购买光刻机用于高端光刻胶项目的研发（1）上海新阳自立项开发193nmArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来，安排购买了ASML-1400光刻机等核心设备，该光刻机已于2020年底前运抵国内。

该光刻机设备于21年3月已进入合作方北方集成电路技术创新中心（北京）有限公司场地，后续将进行安装调试等相关工作。

（2）上海新阳持有38%股权的子公司芯刻微购得ASMLXT1900Gi型二手光刻机一台，该设备可用于研发分辨率达28nm的高端光刻胶。

南大光电：自主研发的ArF光刻胶成功通过下游客户认证公司ArF光刻胶产品开发和产业化项目，目前已完成25吨光刻胶生产线建设，主要先进光刻设备，如ASML浸没式光刻机等已经完成安装并投入使用。

2020年底，公司自主研发的ArF光刻胶产品成功通过下游客户的使用认证，成为通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶，各项光学性能均达到商用胶的水平，可实现先进光刻胶的国产替代，拿到国产光刻胶的首个订单，实现小批量销售。

华懋科技：投资光刻胶企业，切入半导体关键材料领域2021年1月，公司投资了国内优秀的光刻胶企业―徐州博康，该团队多年来专注主业，突破了国内光刻胶领域的技术壁垒并实现规模化生产。

徐州博康的产品涵盖了生产光刻胶相关的树脂、单体、中间体、感光剂、添加剂和光刻胶成品，有着完整的产品体系。

在技术上，该公司已经成功研发出了248nm/193nm/电子束系列成品胶，是未来是国内最有可能取得技术突破并成长为光刻胶领域龙头的企业之一。

投资徐州博康，切入半导体关键材料领域，拓展了华懋科技的核心竞争力和盈利能力。

3、投资建议在全球光刻胶供应短缺和国产化产品替代加速背景下，光大化工团队和电子团队联合建议关注中国光刻胶企业。

建议关注彤程新材、晶瑞股份、上海新阳、南大光电、华懋科技。

4、风险分析半导体下游需求不及预期如果移动终端、功率器件和新能源汽车的推出不达预期，将可能影响相应半导体行业景气度和光刻胶等电子化学品需求。

研发进度不及预期光刻胶研发受制于光刻机，研发成本和壁垒较高，存在研发失败的风险。