头豹研究院-2023年中国光刻胶／显影设备行业词条报告-230612

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（以下内容从头豹研究院《2023年中国光刻胶/显影设备行业词条报告》研报附件原文摘录）
　　光刻胶本质是一种感光材料，也称光致抗蚀剂，主要用于微电子技术中微细图形加工。在紫外光、电子束、离子束、X射线等照射或辐射下，光刻胶溶解度会发生变化，再经适当溶剂溶去可溶性部分，便可实现图形从掩模版到待加工基片上的转移。进一步，未溶解部分光刻胶作为保护层，在刻蚀步骤中保护其下方材料不被刻蚀，从而完成电路制作。