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拓荆科技(688072) 事件点评： 4 月 21 日， 拓荆科技发布 2023 年第一季业绩报告， 2023Q1 公司实现营收 4.02 亿元， 环比下降 43.65%， 同比增长 274.24%； 归母净利润为 0.54 亿元， 环比下降 59.00%， 相较上年同期扭亏为盈； 扣非归母净利润为 0.20 亿元， 环比下降70.39%， 相较上年同期扭亏为盈。 毛利率 49.78%， 环比下降 0.80pcts， 同比增长2.34pcts； 净利率 12.99 %， 环比下降 5.13 pcts， 较上年同期由负转正。 2022 年， 公司营收 17.06 亿元， 同比增长 125.02%， 业绩符合预期。 PECVD 设备为公司主要收入贡献者， 占总营收比例超 90%。 2022 年 PECVD 设备营收为 15.63 亿元， 同比增长 131.44%， 占营收 91.65%， 毛利率为 49.41%；SACVD 业务营收为 0.89 亿元， 同比增长 117.39%， 占营收 5.25%， 毛利率为46.82%； ALD 设备营收为 0.33 亿元， 同比增长 13.85%%， 占营收 1.91%， 毛利率为 46.04%。 2022 年业绩变化主要原因包括： （1） 国内半导体设备需求增加， 全年订单大幅增长： 受益于国内半导体行业良好发展态势， 国内半导体设备需求增加， 公司 2022年全年签订销售订单金额为 43.62 亿元（不含 Demo 订单） ， 新增订单与上年同期相比增加 95.36%。 （2） 薄膜系列产品应用规模持续扩大： 公司薄膜系列产品在晶圆制造产线量产应用规模持续扩大， 公司设备在客户端产线生产产品累计流片量突破 1 亿片。 且公司设备在客户端产线生产运行稳定性表现优异， 平均机台稳定运行时间（Uptime） 超过 90%， 达国际同类设备水平。 各产品线研发进展顺利， 晶圆对晶圆键合产品完成从 0 到 1 且送至客户端验证。 （1）PECVD 系列产品： 持续扩大通用介质薄膜材料及先进薄膜材料工艺应用覆盖， 多种不同工艺指标先进薄膜材料（包括 LoKⅠ 、 ACHM、 ADCⅠ 、 HTN 等） 和设备均通过客户验证， 进入量产产线。 UV Cure（HTN 工艺） 设备已通过不同客户产线验证， 并实现产业化应用； （2） ALD 系列产品： PE-ALD（PF-300T Astra） 产品在现有客户端完成产业化验证， 取得突破性进展， PE-ALD（NF-300H Astra） 在客户端验证进展顺利。 Thermal-ALD（PF-300T Altair、 TS-300 Altair） 设备已完成研发， 并出货至不同客户端进行验证， 可沉积 Al2O3 等金属化合物薄膜。 （ 3）HDPCVD 系列产品: HDPCVD 设备可以同时进行薄膜沉积和溅射， HDPCVD(PF-300T Hesper） 设备已通过产线验证， 实现销售。 （ 4） 混合键合系列产品：成功研制首台晶圆对晶圆键合产品 Dione 300， 并出货至客户端进行验证。 已完成芯片对晶圆键合表面预处理产品 Pollux 研发， 该产品已出货至客户端进行验证。 库存 80%商品取得正式销售订单， 为后续业绩注入增长动能。 受益于市场需求增加以及客户对公司产品认可度持续提升， 公司新增订单及在手订单金额不断增加，为公司业绩快速增长提供有力保障。 公司 2022 年产销量均实现大幅度增长， 产量增长 76.77%， 销量增长 96.23%， 产销规模持续提高。 库存数量合计 162 台， 其中 80%以上为已取得正式销售订单的发出商品， 为后续年度营业收入增长提供保障。 投资建议： 我们公司预测 2023 年至 2025 年营业收入分别为 28.19/39.24/53.07 亿元， 增速分别为 65.3%/39.2%/35.3%； 归母净利润分别为 5.61/8.28/10.90 亿元，增速分别为 52.3%/47.5%/31.7%； 对应 PE 分别 91.5/62.0/47.1。 考虑到拓荆科技PECVD 薄膜材料设备全系列覆盖， 且晶圆对晶圆键合等产品取得突破性进展， 并进入客户验证阶段， 叠加美国政策限制使国产设备导入迎来历史机遇， 首次覆盖，给予增持-A 建议。 风险提示： 半导体行业景气度不及预期； 国产替代进程放缓； 公司产品研发进度不及预期。
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（以下内容从华金证券《多产品进入客户验证阶段，订单金额持续增长保障公司业绩可期》研报附件原文摘录）拓荆科技(688072) 事件点评： 4 月 21 日， 拓荆科技发布 2023 年第一季业绩报告， 2023Q1 公司实现营收 4.02 亿元， 环比下降 43.65%， 同比增长 274.24%； 归母净利润为 0.54 亿元， 环比下降 59.00%， 相较上年同期扭亏为盈； 扣非归母净利润为 0.20 亿元， 环比下降70.39%， 相较上年同期扭亏为盈。 毛利率 49.78%， 环比下降 0.80pcts， 同比增长2.34pcts； 净利率 12.99 %， 环比下降 5.13 pcts， 较上年同期由负转正。 2022 年， 公司营收 17.06 亿元， 同比增长 125.02%， 业绩符合预期。 PECVD 设备为公司主要收入贡献者， 占总营收比例超 90%。 2022 年 PECVD 设备营收为 15.63 亿元， 同比增长 131.44%， 占营收 91.65%， 毛利率为 49.41%；SACVD 业务营收为 0.89 亿元， 同比增长 117.39%， 占营收 5.25%， 毛利率为46.82%； ALD 设备营收为 0.33 亿元， 同比增长 13.85%%， 占营收 1.91%， 毛利率为 46.04%。 2022 年业绩变化主要原因包括： （1） 国内半导体设备需求增加， 全年订单大幅增长： 受益于国内半导体行业良好发展态势， 国内半导体设备需求增加， 公司 2022年全年签订销售订单金额为 43.62 亿元（不含 Demo 订单） ， 新增订单与上年同期相比增加 95.36%。 （2） 薄膜系列产品应用规模持续扩大： 公司薄膜系列产品在晶圆制造产线量产应用规模持续扩大， 公司设备在客户端产线生产产品累计流片量突破 1 亿片。 且公司设备在客户端产线生产运行稳定性表现优异， 平均机台稳定运行时间（Uptime） 超过 90%， 达国际同类设备水平。 各产品线研发进展顺利， 晶圆对晶圆键合产品完成从 0 到 1 且送至客户端验证。 （1）PECVD 系列产品： 持续扩大通用介质薄膜材料及先进薄膜材料工艺应用覆盖， 多种不同工艺指标先进薄膜材料（包括 LoKⅠ 、 ACHM、 ADCⅠ 、 HTN 等） 和设备均通过客户验证， 进入量产产线。 UV Cure（HTN 工艺） 设备已通过不同客户产线验证， 并实现产业化应用； （2） ALD 系列产品： PE-ALD（PF-300T Astra） 产品在现有客户端完成产业化验证， 取得突破性进展， PE-ALD（NF-300H Astra） 在客户端验证进展顺利。 Thermal-ALD（PF-300T Altair、 TS-300 Altair） 设备已完成研发， 并出货至不同客户端进行验证， 可沉积 Al2O3 等金属化合物薄膜。 （ 3）HDPCVD 系列产品: HDPCVD 设备可以同时进行薄膜沉积和溅射， HDPCVD(PF-300T Hesper） 设备已通过产线验证， 实现销售。 （ 4） 混合键合系列产品：成功研制首台晶圆对晶圆键合产品 Dione 300， 并出货至客户端进行验证。 已完成芯片对晶圆键合表面预处理产品 Pollux 研发， 该产品已出货至客户端进行验证。 库存 80%商品取得正式销售订单， 为后续业绩注入增长动能。 受益于市场需求增加以及客户对公司产品认可度持续提升， 公司新增订单及在手订单金额不断增加，为公司业绩快速增长提供有力保障。 公司 2022 年产销量均实现大幅度增长， 产量增长 76.77%， 销量增长 96.23%， 产销规模持续提高。 库存数量合计 162 台， 其中 80%以上为已取得正式销售订单的发出商品， 为后续年度营业收入增长提供保障。 投资建议： 我们公司预测 2023 年至 2025 年营业收入分别为 28.19/39.24/53.07 亿元， 增速分别为 65.3%/39.2%/35.3%； 归母净利润分别为 5.61/8.28/10.90 亿元，增速分别为 52.3%/47.5%/31.7%； 对应 PE 分别 91.5/62.0/47.1。 考虑到拓荆科技PECVD 薄膜材料设备全系列覆盖， 且晶圆对晶圆键合等产品取得突破性进展， 并进入客户验证阶段， 叠加美国政策限制使国产设备导入迎来历史机遇， 首次覆盖，给予增持-A 建议。 风险提示： 半导体行业景气度不及预期； 国产替代进程放缓； 公司产品研发进度不及预期。
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