国盛证券-中微公司-688012-刻蚀能力进一步提高，MOCVD业务拐点来临-220401

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公司发布2021年报。

2021年公司营业收入31亿元，增长37%；归母净利润10亿元，增长105%；扣非归母净利润3亿元，同比大幅增长；剔除股份支付后扣非归母净利润5亿元，同比增长267%。

股权激励费用约2亿，公允价值变动4.6亿（税前），补助3.5亿（税前）。

营收结构上，刻蚀收入20亿元，增长55%，毛利率44%；MOCVD收入5亿元，增长1%，毛利率34%（同比提升15pct）。

需求旺盛，合同负债持续增长。

公司2021年新签订单41亿元，同比增长91%。

报告期末，公司合同负债13.7亿元，环比21Q3末提升53%。

公司存货17.6亿元，其中发出商品约8.5亿元（同比增长72%）。

合同负债反应在手订单，发出商品反应未来收入确认。

ICP放量增长强劲，MOCVD业务拐点来临。

（1）公司2021年付运298腔CCP，产量增长40%，并取得5nm及以下逻辑重复订单，且在128层3DNAND广泛应用。

公司正开发新一代涵盖128nm及以上的关键刻蚀应用以及极高深宽比刻蚀设备。

（2）公司2021年付运134腔ICP，产量增长235%，得到多个国内客户订单。

公司下一代ICP目标满足5nm及以下逻辑、1X纳米DRAM及128层以上3DNAND刻蚀需求。

（3）公司用于MiniLED的Unimax设备在2021年订单超过100腔，且2022年2月兆驰增量订单52腔。

此外，公司开发GaN功率器件MOCVD，处于交付客户验证阶段。

（4）公司在钨填充CVD获得阶段性进展，与客户对接验证，且正进一步开发CVD和ALD。

公司在3月10日增资上海睿励1.08亿元，持股比例由20%增至29%。

上海睿励主营的产品为光学膜厚测量设备和光学缺陷检测设备，以及硅片厚度及翘曲测量设备等，其光学测量设备TFX3000已应用于28nm产线，正验证于14nm产线；应用于64层3DNAND，正验证于96层3DNAND。

持续投入研发。

公司研发投入7.28亿元，增长14%，研发投入占营收约23%。

其中，研发费用为5.95亿元，增长6%。

公司研发人员415人，占员工总数40%。

公司研发新品包括新一代CCP、新一代ICP、功率GaNMOCVD以及CVD类，快速打开产品线。

半导体刻蚀设备龙头，打造旗舰平台型企业。

公司成功打造一支具有创造力和核心竞争力的技术团队。

公司MOCVD持续升级迎来MiniLED拐点，CCP产品涵盖国内外一线客户，ICP产品快速迭代并放量，并布局沉积等新产品线，打造半导体设备旗舰企业，并通过外延投资沈阳拓荆、睿励仪器等推进平台型建设。

半导体刻蚀设备龙头，打造旗舰平台型企业。

公司成功打造一支具有创造力和核心竞争力的技术团队，并成功打开商业化空间。

公司MOCVD持续升级，CCP产品涵盖国内外一线客户，ICP产品快速迭代并放量，并继续布局半导体设备新产品线，打造半导体设备旗舰企业，并通过外延投资沈阳拓荆、睿励仪器、山东天岳等公司推进平台型建设。

预计公司2022~2024年归母净利润11.05/13.24/15.45亿元，维持“买入”评级。

风险提示：下游需求不及预期。